INTRODUCTION / 技術簡介
光熱協同催化裂解廢氣深度處理器是利用鈦/錳/鈰復合氧化物納米催化材料的光熱協同作用,對低濃度工業廢氣在常溫條件下進行催化“冷焚燒”的深度處理專用設備。該產品是我公司針對工業廢氣排放標準提標要求自主研發的新一代工業廢氣深度凈化設備。
PRINCIPLE / 技術原理
ADVANTAGE / 產品優勢
環保高科技專利產品
采用先進技術理念,具有自主知識產權的高科技環保凈化產品??蓮氐追纸鈵撼魵怏w中有毒有害物質,并能達到完美的脫臭效果,經分解后的惡臭氣體,可完全達到無害化排放,不產生二次污染(臭氧),同時達到高效消毒殺菌的作用。
治理效率高、使用范圍廣
光熱協同催化裂解廢氣深度處理器能高效去除揮發性有機物VOC、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡嗅味,除味效率最高可達99%以上,整個分解氧化過程在 1 秒內完成。
運行成本低
無需對惡臭氣體進行特殊預處理、
無需添加任何物質、無需專人管理、無需更換濾芯材料、無機械噪音
設備能耗低(每處理1000立方米/小時,僅耗電約0.1度電能)設備風阻極低,可節約大量排風動力能耗。
設備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,設備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。
安全穩定性高
優質進口材料制造:防火、防腐蝕性能高,性能穩定,使用壽命長???4小時連續工作
工業VOCS光熱協同催化深度處理